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HW-80301硅片清洗剂

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HW-80301硅片清洗剂

硅片清洗剂，适用于光伏行业中，根据硅片的生产工艺的特点而设计，主要用于单晶硅片和多晶硅片清洗。本产品具有很强的清洗能力，能够清洗硅片加工过程残留的表面金属离子、硅粉、有机物、无机杂质和颗粒等污染物。

硅片清洗剂，适用于光伏行业中，根据硅片的生产工艺的特点而设计，主要用于单晶硅片和多晶硅片清洗。本产品具有很强的清洗能力，能够清洗硅片加工过程残留的表面金属离子、硅粉、有机物、无机杂质和颗粒等污染物。

适用于浸泡、超声波等清洗方式，是进口及国产清洗机理想的配套产品。

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产品编号
HW-80301
所属分类
光伏行业
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产品简介

硅片清洗剂，适用于光伏行业中，根据硅片的生产工艺的特点而设计，主要用于单晶硅片和多晶硅片清洗。本产品具有很强的清洗能力，能够清洗硅片加工过程残留的表面金属离子、硅粉、有机物、无机杂质和颗粒等污染物。

适用于浸泡、超声波等清洗方式，是进口及国产清洗机理想的配套产品。

产品特点

针对现在硅片企业对硅片清洗度不断提高的要求，开发了以低泡特效表面活性剂、乳化剂、助剂、pH调节剂等为主辅剂的弱碱性新型硅片清洗产品。

高效----对硅片残留的表面金属离子、硅粉等清洗有特效：清洗能力超强、效率高、耐用性好。

漂洗性----泡沫低，易漂洗，洗后无残留。

腐蚀性----对硅晶片安全无腐蚀。

对环境友好，不会对清洗设备造成腐蚀、氧化等不良现象，无毒性，具有较低的COD值，易生物降解，完全达到了排放环保的要求。完全满足光伏行业客户对于单晶硅片及多晶硅片的清洗要求。

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